ALD
Syskey Technology Co., Ltd. (Тайвань)
st-ald
Система для формирования тонких плёнок методом атомно-слоевого осаждения
Области применения:
- МОП-транзисторы с high-k затвором,
- Нанопористые структуры,
- Поверхностная декапировка поликремния для солнечных элементов
- Пассивационные слои для органических светодиодов


Максимальный диаметр пластин: до 300 мм (12")

Равномерность покрытия по толщ: < 1%

Количество источников прекурсо: до 6 шт

Максимальная температура нагре: 800˚C

Тип плазменной обработки: Прямая (direct) и дистанционная ёмкостно-связанная плазма

Напыляемые материалы: оксиды/нитриды/металлы

Система управления: Полностью автоматическая с сенсорным экраном