Меню
Главная  /  Оборудование  /  Электронно-лучевое напыление (E-beam PVD)

Электронно-лучевое напыление (E-beam PVD)

Универсальная установка напыления тонких плёнок методом электронно-лучевого испарения (Electron Beam Evaporation)
Фотоника и опто­электроника
Органическая электроника
МЭМС
Кремниевая жлектроника
Силовая электроника
СВЧ

Общие характеристики

Габариты обрабатываемых пластин и подложек:
диаметр до 300 мм (полупроводниковая пластина) или 470 x 370 мм² (стекло)
Варианты одновременной загрузки пластин:
2" (50мм) х 32 шт,
4" (100мм) х 16 шт,
6" (150мм) х 6 шт,
8" (200мм) х 4 шт
Равномерность по толщине:
менее 3%
Остаточное давление:
<10E-10 Торр
Максимальная температура нагрева подложек:
до 800˚C
Встроенная система безопасности, автоматические блокировки дверей, клапанов и вентилей
Автоматическая система управления, сенсорный экран
Документирование параметров техпроцесса в реальном времени (давление в камере, температура, скорость напыления и т,д,)
Управление техпроцессом в реальном времени для исключительного качества и повторяемости толщин плёнок
Различные уровни доступа к системе (оператор, технолог, инженер-наладчик) с защитой через логин-пароль
Одновременное нанесение различных материалов
Набор тиглей с возможностью последовательного нанесения
Кварцевый датчик толщины для контроля толщины нанесения с обратной связью
Возможность оснащения вакуумными системами высокого (HV) и сверхвысокого (UHV) вакуума
Специальная конфигурация и состав под заказ

Опции

На выбор доступны конфигурации с турбомолекулярным, криогенным или диффузионным насосом
Количество тиглей (1, 2, 4, 6 или др.) - указывается перед размещением заказа
Загрузочный шлюз
Охлаждение подложек
Наклон подложек
Доступные опции нагрева подложек: 300 ˚C, 500 ˚C, 800 ˚C
Интеграция с перчаточным боксом (включая шлюз и автоблокировку)
Конструкция механизма вращения подложки для сверхвысоковакуумного напыления и высокотемпературного нагрева. Используется керамический корпус, водяное охлаждение внутри для защиты механизма вращения и обеспечения его стабильной работы на долгое время.
Гибкий подбор размеров вакуумной камеры зависящий от размера подложки и области применения
Полно диапазонный датчик вакуума с цифровым дисплеем и Баратрон для управления давлением в системе по замкнутому контуру
Несколько испарителей с последовательной работой или совместным напылением
ВЧ-, НЧ- или импульсные источники для диэлектриков и токопроводящих материалов
Напыление многослойных плёнок выбранными материалами мишеней
Регулируемая высота магнетронов, (расстояние между мишенью и подложкой)
Позвоните нам по телефону +7 (495) 150 9546
или отправьте заявку в этой форме
Поля, обязательные к заполнению, помечены (*).
Нажимая на кнопку, Вы соглашаетесь с Политикой конфиденциальности.