Меню
En
Ru

ALD - Установка атомно-слоевого осаждения

Производство компании Syskey Technology Co., Ltd. (Тайвань)
Система для формирования тонких плёнок методом атомно-слоевого осаждения
Получить предложение
Области применения
МОП-транзисторы с high-k затвором
Нанопористые структуры
Поверхностная декапировка поликремния для солнечных элементов
Пассивационные слои для органических светодиодов
Характеристики
Опции
  • 1
    Высоковакуумная откачная система
  • 2
    Буферная камера для загрузки-выгрузки подложек
  • 3
    Охлаждение подложек
  • 4
    Загрузочный шлюз
  • 5
    Доступные опции нагрева подложек - 800 ˚C
  • 6
    Соединение с перчаточной камерой
Позвоните нам по телефону
+7 495 150 9546
или заполните форму для получения дополнительной информации
и коммерческого предложения
Поля, обязательные к заполнению, помечены (*).
Нажимая на кнопку, Вы соглашаетесь с Политикой конфиденциальности.