En Ru
ALD - Установка атомно-слоевого осаждения
Система для формирования тонких плёнок методом атомно-слоевого осаждения
Области применения
-
МОП-транзисторы с high-k затвором - Нанопористые структуры
- Поверхностная декапировка поликремния для солнечных элементов
- Пассивационные слои для органических светодиодов
Характеристики
Опции
- Высоковакуумная откачная система
- Буферная камера для загрузки-выгрузки подложек
- Охлаждение подложек
- Загрузочный шлюз
- Доступные опции нагрева подложек - 800 ˚C
- Соединение с перчаточной камерой
Позвоните нам по телефону
+7 495 150 9546
+7 495 150 9546
или заполните форму для получения дополнительной информации
и коммерческого предложения
и коммерческого предложения
Поля, обязательные к заполнению, помечены (*).
Нажимая на кнопку, Вы соглашаетесь с Политикой конфиденциальности.
Нажимая на кнопку, Вы соглашаетесь с Политикой конфиденциальности.