ALD - Установка атомно-слоевого осаждения

Производство компании Syskey Technology Co., Ltd. (Тайвань)
Система для формирования тонких плёнок методом атомно-слоевого осаждения
Области применения
МОП-транзисторы с high-k затвором
Нанопористые структуры
Поверхностная декапировка поликремния для солнечных элементов
Пассивационные слои для органических светодиодов
Характеристики
Опции
1
Высоковакуумная откачная система
2
Буферная камера для загрузки-выгрузки подложек
3
Охлаждение подложек
4
Загрузочный шлюз
5
Доступные опции нагрева подложек - 800 ˚C
6
Соединение с перчаточной камерой
Позвоните нам по телефону
+7 495 150 9546
или заполните форму для получения дополнительной информации
и коммерческого предложения
Поля, обязательные к заполнению, помечены (*).
Нажимая на кнопку, Вы соглашаетесь с Политикой конфиденциальности.