Меню
En
Ru

PECVD - Установка плазменно-химического осаждения

Производство компании Syskey Technology Co., Ltd. (Тайвань)
Гибкое решение для плазменного осаждения тонких плёнок из газовой фазы
Получить предложение
Области применения оборудования
Плазменная очистка
Послойное наращивание CNT и графена
Тонкие плёнки из оксидов, нитридов, a-Si
Структуры на базе алмазных пленок
Характеристики
Опции
Позвоните нам по телефону
+7 495 150 9546
или заполните форму для получения дополнительной информации
и коммерческого предложения
Поля, обязательные к заполнению, помечены (*).
Нажимая на кнопку, Вы соглашаетесь с Политикой конфиденциальности.