RIE - Установка сухого плазменного травления

Производство компании Syskey Technology Co., Ltd. (Тайвань)
Решение для плазменного травления кремния, оксидных и нитридных пленок
Материалы
Установка плазменного травления RIE / ICP-RIE производства компании Syskey предназначена для травления следующих материалов
Полупроводниковые материалы
Арсенид и нитрид галлия,фосфид индия, карбид кремния и др. (GaAs, GaN, InP, SiC и др.)
Органические материалы
Фоторезисты и другие органические материалы, в т.ч. полиамидные пленки
Кремний и диэлектрики
Кремний, поликремний, оксиды и нитриды (Si, Si0₂, Si₃N₄ и др.), включая кварц и стекло
Металлы
Алюминий, золото, никель, хром, вольфрам и др. (Al, Au, Ni, Cr, W и др.)
Характеристики
Опции
Позвоните нам по телефону
+7 495 150 9546
или заполните форму для получения дополнительной информации
и коммерческого предложения
Поля, обязательные к заполнению, помечены (*).
Нажимая на кнопку, Вы соглашаетесь с Политикой конфиденциальности.