Универсальная установка магнетронного напыления тонких плёнок металлов, оксидов и нитридов
диаметр загружаемых пластин: до 12" (300 мм)
остаточный вакуум: < 10E-7 Торр
неравномерность толщины напыляемых пленок: 5% и лучше (на пластине 200 мм)
Получить предложение
Области применения
Полупроводниковые приборы
Нанотехнологии
Исследования нанесения тонкоплёночных покрытий
Напыление металлов, оксидов и нитридов
Солнечные батареи и оптические устройства
Характеристики
Размер обрабатываемых подложек;до 300 мм (возможна загрузка кусков пластин)
Равномерность напыления по толщине;±5 нм при толщине плёнки 200 нм
Остаточное давление в камере;до 10ˉ¹⁰ Торр
Среднее время достижения давления 10ˉ⁶ Торр;< 40 мин
Максимальная температура нагрева подложек;1000 ˚C
Среднее время нагрева подложек до температуры 300 ˚C;< 12 мин
Тип нагрева подложек;инфракрасный
Средний ресурс работы клапанов;> 1 млн циклов открытия/закрытия
Возможность оснащения на выбор: турбомолекулярным, криогенным или диффузионным насосом
Встроенная система безопасности, автоматическая блокировка дверей, клапанов и вентилей
Автоматическая система управления, сенсорный экран
Запись параметров техпроцесса в реальном времени (давление в камере, температура, скорость напыления)
Управление техпроцессом нанесения в реальном времени
Различные уровни доступа к системе (оператор, технолог, инженер-наладчик) с защитой через логин-пароль
Запасной порт для подключения OES, RGA или дополнительного контроля за процессом
Возможность оснащения блоками высокого (HV) и сверхвысокого (UHV) вакуума
Настройка оборудования под требования клиента
Опции
Система автоматической загрузки/выгрузки
Передаточная камера с роботом-манипулятором, оснащается кассетными станциями или загрузчиками для SMIF и FOUP
Различные источники питания для магнетронов
ВЧ-источники и источники на постоянном токе, в т.ч. импульсные, биполярные и ассиметрично-биполярные
Датчики толщин наносимых пленок
Различные типы датчиков для определения толщин и характеристик наносимых пленок, включая кварцевые и оптические
Ионная очистка пластин и подложек
Ионный источник для очистки подложек, ионно-ассистированного напыления и низкоэнергетического травления
Системы нагрева и вращения подложек
Интегрированные в подложкодержатель системы нагрева (кондуктивного и конвекционного типа) и вращения подложек
Полнодиапазонные системы измерения вакуума
А также системы контроля уровня остаточного давления, системы поддержания соотношения газовой смеси в камере и т.д.
Позвоните нам по телефону +7 495 150 9546
или заполните форму для получения дополнительной информации и коммерческого предложения
Поля, обязательные к заполнению, помечены (*). Нажимая на кнопку, Вы соглашаетесь с Политикой конфиденциальности.