В данной установке подложки проходят под одним или несколькими напыляющими катодами для получения тонкопленочного покрытия.
Максимальный размер пластин: до 1100 х 1300 мм2
Уровень остаточного давления: < 1E–7 Торр
Неравномерность по толщины напыляемых пленок: 3% и лучше
Получить предложение
Области применения
Полупроводниковые приборы
Нанотехнологии
ЖК-Дисплеи
Солнечные батареи и оптические устройства
Сенсорная панель
Характеристики
Общие характеристики
Размер обрабатываемых подложек;Различны до 1100 x 1300 мм2 (стекло)
Превосходная однородность наносимых пленок ;менее ±5%
Высокая скорость нанесения и высоко эффективный катод;≥ 250 нм/мин
Мощность источника;5 кВт для ВЧ, НЧ или импульсный макс. 20 кВт
Нагрев подложки с контролем стабильности температуры;до 400 °C
Средний ресурс работы клапанов;> 1 млн циклов открытия/закрытия
Вакуумная камера
Остаточное давление в камере;до 1E-7 Торр
Преимущества
Гибкий подбор размеров вакуумной камеры зависящий от размера подложки и области применения
Полно диапазонный датчик вакуума с цифровым дисплеем и Баратрон для управления давлением в системе по замкнутому контуру
Несколько испарителей с последовательной работой или совместным напылением