Размер обрабатываемых подложек;Различны до 1100 x 1300 мм2 (стекло)
Превосходная однородность наносимых пленок ;менее ±5%
Высокая скорость нанесения и высоко эффективный катод;≥ 250 нм/мин
Мощность источника;5 кВт для ВЧ, НЧ или импульсный макс. 20 кВт
Нагрев подложки с контролем стабильности температуры;до 400 °C
Средний ресурс работы клапанов;> 1 млн циклов открытия/закрытия