Максимальный диаметр пластин: до 12" (300 мм)или габаритами 470 х 370 мм2 (стекло)
Уровень остаточного давления: < 1E–8 Торр
Неравномерность по толщины напыляемых пленок: ±3% и лучше (на пластине 200 мм)
Получить предложение
Области применения
Научные исследования металлов
Наноплёнки
Солнечные панели
Характеристики
Общие характеристики
Размер обрабатываемых подложек;до 300 мм или габаритами 470 х 370 мм2 (стекло)
Превосходная однородность наносимых пленок ;менее ±3%
Изменяемая количество магнетронов с разными размерами мишеней;до 8 источников
Максимальная температура нагрева подложек;800 ˚C
Тип нагрева подложек;инфракрасный
Средний ресурс работы клапанов;> 1 млн циклов открытия/закрытия
Вакуумная камера
Остаточное давление в камере;до 1E-8 Торр
Преимущества
Гибкий подбор размеров вакуумной камеры зависящий от размера подложки и области применения
Возможность одновременной установки нескольких источников с последовательным включением или совместным напылением.
Вращение подложки для получения лучшей равномерности по толщине.
Полно диапазонный датчик вакуума с цифровым дисплеем и Баратрон для управления давлением в системе по замкнутому контуру
ВЧ-, НЧ- или импульсные источники для диэлектриков и токопроводящих материалов
Нанесение многослойных пленок с выбранными материалами
Настраиваемое расстояние от испарителя/источника до подложки
Заслонки устанавливаются на каждый испаритель/источник и на подложку
Возможность оснащения на выбор: турбомолекулярным, криогенным или диффузионным насосом
Встроенная система безопасности, автоматическая блокировка дверей, клапанов и вентилей
Автоматическая система управления, сенсорный экран
Запись параметров техпроцесса в реальном времени (давление в камере, температура, скорость напыления)
Управление техпроцессом нанесения в реальном времени
Различные уровни доступа к системе (оператор, технолог, инженер-наладчик) с защитой через логин-пароль
Запасной порт для подключения OES, RGA или дополнительного контроля за процессом
Возможность оснащения блоками высокого (HV) и сверхвысокого (UHV) вакуума
Настройка оборудования под требования клиента
Опции
1
Система автоматической загрузки/выгрузки
Передаточная камера с роботом-манипулятором, оснащается кассетными станциями или загрузчиками для SMIF и FOUP
2
Возможность усовершенствования до кластерной системы
Оснащается транспортировочной камерой с роботом и датчиками положения пластины. Можно будет добавлять процессные камеры.
3
Перчаточный бокс
Герметичный контейнер интегрированный в систему, который предназначен для манипулирования объектами в отдельной контролируемой чистой атмосфере.
4
Различные источники питания для магнетронов
ВЧ-источники и источники на постоянном токе, в т.ч. импульсные, биполярные и ассиметрично-биполярные
5
Датчики толщин наносимых пленок
Различные типы датчиков для определения толщин и характеристик наносимых пленок, включая кварцевые и оптические
6
Ионная очистка пластин и подложек
Ионный источник для очистки подложек, ионно-ассистированного напыления и низкоэнергетического травления
7
Системы нагрева, охлаждения и вращения подложек
Интегрированные в подложкодержатель системы нагрева (кондуктивного и конвекционного типа), охлаждения и вращения подложек
8
Полнодиапазонные системы измерения вакуума
А также системы контроля уровня остаточного давления, системы поддержания соотношения газовой смеси в камере и т.д.
9
Анализатор остаточных газов
Анализатор остаточных газов (RGA) - это небольшой и обычно прочный масс-спектрометр, обычно предназначенный для контроля технологических процессов и контроля загрязнения в вакуумных системах
Позвоните нам по телефону +7 495 150 9546
или заполните форму для получения дополнительной информации и коммерческого предложения
Поля, обязательные к заполнению, помечены (*). Нажимая на кнопку, Вы соглашаетесь с Политикой конфиденциальности.