Оборудование

Вакуумное и плазмохимическое технологическое оборудование
Современные технологии нано- и микроэлектроники невозможно представить без вакуумного и плазмохимического технологического оборудования. Эти установки обеспечивают точное нанесение и травление тонких плёнок, что является основой кристального производства микросхем, сенсоров, MEMS-устройств, оптических компонентов и солнечных элементов.
Компания ТТМ предлагает широкий спектр решений для лабораторий, научных центров и промышленных предприятий:

• Вакуумное оборудование для физического напыления: установки магнетронного (Sputtering PVD), термического (Thermal PVD) и электронно-лучевого напыления (E-beam PVD).
• Плазмохимическое оборудование: установки плазмохимического осаждения (PECVD, ICP-CVD), реактивно-ионного травления (RIE) и реактивно-ионного травления в индуктивно-связанной плазме (ICP-RIE), установки атомно-слоевого осаждения (Thermal ALD, PEALD) и атомно-слоевого травления (PEALE), системы травления фоторезиста в кислородной плазме, а также системы плазменной очистки и активации поверхности.

Все решения обеспечивают высокую стабильность процессов, точный контроль параметров плазмы и чистоты вакуумной среды, что особенно важно при производстве изделий микро- и наноуровня.
Наши технологии применяются в следующих областях:

• производство полупроводников и интегральных схем,
• создание фотонных структур и оптических покрытий,
• изготовление дисплеев, сенсоров и MEMS-компонентов,
• разработка тонкоплёночных материалов и исследовательских прототипов.

Компания ТТМ более 18 лет работает в сфере поставок и интеграции высокотехнологичного оборудования, обеспечивая не только поставку систем, но и полный цикл поддержки — от подбора решений и инжиниринга технологического процесса до обучения персонала и сервисного обслуживания.