Меню
En
Ru

PECVD - Установка плазмохимического осаждение

Производство компании Syskey Technology Co., Ltd. (Тайвань)
  • Максимальный диаметр пластин: до 12" (300 мм)
  • Неравномерность по толщине осаждаемых пленок: 3% и лучше (на пластине 200 мм)
Получить предложение
Области применения
Плазменная очистка
SiOx, SINx, a-Si, DLC и другие типы плёнок
Экраны с защитой от царапин
Защитные покрытия для медицинских и потребительских товаров 
Корпусирование, изоляционные слои
Характеристики
Преимущества
  1. Гибкий подбор размеров вакуумной камеры зависящий от размера подложки и области применения
  2. Прямая и отдаленная емкостно-связанная плазма.
  3. Для некоторых материалов доступна плазменная очистка.
  4. Встроенная система безопасности, автоматическая блокировка дверей, клапанов и вентилей
  5. Автоматическая система управления, сенсорный экран
  6. Запись параметров техпроцесса в реальном времени (давление в камере, температура, скорость напыления)
  7. Управление техпроцессом нанесения в реальном времени
  8. Различные уровни доступа к системе (оператор, технолог, инженер-наладчик) с защитой через логин-пароль
  9. Запасной порт для подключения OES, RGA или дополнительного контроля за процессом
  10. Возможность оснащения блоками высокого (HV) и сверхвысокого (UHV) вакуума
  11. Настройка оборудования под требования клиента
Опции
  • 1
    Система автоматической загрузки/выгрузки
    Передаточная камера с роботом-манипулятором, оснащается кассетными станциями или загрузчиками для SMIF и FOUP
  • 2
    Возможность усовершенствования до кластерной системы
    Оснащается транспортировочной камерой с роботом и датчиками положения пластины. Можно будет добавлять процессные камеры. 
  • 3
    Перчаточный бокс
    Герметичный контейнер интегрированный в систему, который предназначен для манипулирования объектами в отдельной контролируемой чистой атмосфере.
  • 4
    Оптический эмиссионный спектрометр
    Позволяет исследовать свойства тонких пленок: определять толщину и оптические константы, исследовать анизотропию, градиент, морфологию, кристалличность, химический состав и электропроводность однослойных и многослойных структур
Позвоните нам по телефону
+7 495 150 9546
или заполните форму для получения дополнительной информации
и коммерческого предложения
Поля, обязательные к заполнению, помечены (*).
Нажимая на кнопку, Вы соглашаетесь с Политикой конфиденциальности.