Меню
  • /

UHV Sputter - Установка магнетронного напыления в сверхвысоком вакууме

Производство компании Syskey Technology Co., Ltd. (Тайвань)
  • Максимальный диаметр пластин: до 12" (300 мм)
  • Уровень остаточного давления: < 1E–12 Торр
  • Неравномерность по толщины напыляемых пленок: 3% и лучше (на пластине 200 мм)
Области применения
Полупроводниковые приборы
Нанотехнологии
Напыление металлов, оксидов и нитридов
Напыление композитных плёнок
Солнечные батареи и оптические устройства
Характеристики
Преимущества
  1. Конструкция механизма вращения подложки для сверхвысоковакуумного напыления и высокотемпературного нагрева. Используется керамический корпус, водяное охлаждение внутри для защиты механизма вращения и обеспечения его стабильной работы на долгое время.
  2. Гибкий подбор размеров вакуумной камеры зависящий от размера подложки и области применения
  3. Полно диапазонный датчик вакуума с цифровым дисплеем и Баратрон для управления давлением в системе по замкнутому контуру
  4. Несколько испарителей с последовательной работой или совместным напылением
  5. ВЧ-, НЧ- или импульсные источники для диэлектриков и токопроводящих материалов
  6. Напыление многослойных плёнок выбранными материалами мишеней
  7. Регулируемая высота магнетронов, (расстояние между мишенью и подложкой)
  8. Заслонки для каждой мишени или подложки.
  9. Встроенная система безопасности, автоматическая блокировка дверей, клапанов и вентилей
  10. Автоматическая система управления, сенсорный экран
  11. Запись параметров техпроцесса в реальном времени (давление в камере, температура, скорость напыления)
  12. Управление техпроцессом нанесения в реальном времени
  13. Различные уровни доступа к системе (оператор, технолог, инженер-наладчик) с защитой через логин-пароль
  14. Запасной порт для подключения OES, RGA или дополнительного контроля за процессом
  15. Настройка оборудования под требования клиента
Опции
  • 1
    Система автоматической загрузки/выгрузки
    Передаточная камера с роботом-манипулятором, оснащается кассетными станциями или загрузчиками для SMIF и FOUP
  • 2
    Возможность усовершенствования до кластерной системы
    Оснащается транспортировочной камерой с роботом и датчиками положения пластины. Можно будет добавлять процессные камеры. 
  • 3
    Перчаточный бокс
    Герметичный контейнер интегрированный в систему, который предназначен для манипулирования объектами в отдельной контролируемой чистой атмосфере.
  • 4
    Различные источники питания для магнетронов
    ВЧ-источники и источники на постоянном токе, в т.ч. импульсные, биполярные и ассиметрично-биполярные
  • 5
    Датчики толщин наносимых пленок
    Различные типы датчиков для определения толщин и характеристик наносимых пленок, включая кварцевые и оптические
  • 6
    Ионная очистка пластин и подложек
    Ионный источник для очистки подложек, ионно-ассистированного напыления и низкоэнергетического травления
  • 7
    Системы нагрева и вращения подложек
    Интегрированные в подложкодержатель системы нагрева (кондуктивного и конвекционного типа) и вращения подложек
  • 8
    Полнодиапазонные системы измерения вакуума
    А также системы контроля уровня остаточного давления, системы поддержания соотношения газовой смеси в камере и т.д.
Позвоните нам по телефону
+7 495 150 9546
или заполните форму для получения дополнительной информации
и коммерческого предложения
Поля, обязательные к заполнению, помечены (*).
Нажимая на кнопку, Вы соглашаетесь с Политикой конфиденциальности.