Установка реактивного ионного травления с индуктивно-связанной плазмой

Система плазмохимического травления микро- и наноструктур, где плазма генерируется с помощью магнитного поля с радиочастотным (RF) питанием

Применение

Травление глубоких отверстий и вытравление канавок, оксидов и фотошаблонов
Травление диэлектриков и материалов с низкой диэлектрической проницаемостью

Принцип действия

Плазма создаётся индуктивным разрядом, а ионы вытягиваются из плазмы подачей высокочастотного смещения на подложку. Некоторые механизмы взаимодействия с удаляемым материалом: химический, физический

Технические характеристики

Позвоните нам по телефону
+7 495 150 9546

или заполните форму для получения дополнительной информации
и коммерческого предложения

Поля, обязательные к заполнению, помечены (*).
Нажимая на кнопку, Вы соглашаетесь с Политикой конфиденциальности.