Автоматический оптический микроскоп

Тип системы

Полностью автоматическая / полуавтоматическая (с автоматической фокусировкой и моторизованным столиком)

Тип микроскопа

Прямой (металлографический) / инвертированный; для отражённого и проходящего света

Диаметр пластин

От 50 мм до 300 мм (2, 4, 6, 8, 12 дюймов)

Оптическая система

Бесконечно-корректированная (infinity-corrected)

Объективы

План-апохроматические / полуапокроматические: 2×, 5×, 10×, 20×, 50×, 100×

Общее увеличение

От 15× до 1000× (оптическое); до 3000× (с цифровым увеличением)

Методы наблюдения

Светлое поле (BF), тёмное поле (DF), дифференциальный интерференционный контраст (DIC), поляризация (Pol), флуоресценция (Fluo), глубокий УФ (DUV) — для метрологии структур 100–150 нм (с использованием специализированных метрологических методов), ближний ИК (NIR)

Автоматическая фокусировка

Активная лазерная автофокусировка (лазерный автодетектор)

Разрешение по высоте (Z)

6 нм - 1 мкм; до 3 нм (конфокальные / интерферометрические системы, по VDI 2655)

Латеральное разрешение

До 267 нм (по критерию Рэлея)

Моторизованный столик

XY-перемещение до 300×300 мм (для 12-дюймовых пластин)

Скорость инспекции

≥ 30 пластин/час (зависит от разрешения, площади сканирования и режима инспекции)

Револьверная головка

Моторизованная, на 6 объективов

Источник света

12 В / 100 Вт галоген (предварительно центрированный) / светодиодное освещение (LED)

Автоматизация

Автоматическое управление: смена объективов, переключение BF/DF, регулировка апертуры, управление интенсивностью освещения, DIC-настройки

Система загрузки

Ручная / полуавтоматическая / полностью автоматическая (с загрузчиком пластин из кассет или FOUP)

Управление

Промышленный ПК, специализированное ПО с AI-поддержкой, рецептурное управление, поддержка SECS/GEM

Класс чистоты

Совместимость с чистыми помещениями (SEMI S2/S8)

Питание

200–480 В, 50/60 Гц

Габариты (Ш×Г×В)

От 1000×800×1500 мм (настольные системы) до 2500×1800×2200 мм (промышленные системы с автоматическим загрузчиком)

Масса

От 100 кг (настольные) до 1500 кг (промышленные)

Методы наблюдения:

- Светлое поле (Brightfield, BF) — стандартный метод для наблюдения рельефа и структуры поверхности
- Тёмное поле (Darkfield, DF) — для обнаружения царапин, частиц и дефектов; в 4 раза ярче по сравнению с предыдущими оптическими системами
- Дифференциальный интерференционный контраст (DIC) — для визуализации перепадов высот поверхности
- Поляризация (Polarization) — для устранения бликов от зеркальных поверхностей
- Флуоресценция (Fluorescence) — включая УФ-возбуждение на 365 нм
- Глубокий УФ (DUV, 248–250 нм) — для метрологии структур 100–150 нм (с использованием специализированных метрологических методов, таких как scatterometry и ellipsometry).
- Ближний ИК (Near-Infrared, NIR) — для наблюдения скрытых слоёв

Объективы:

- План-апохроматические объективы с увеличениями: 2×, 5×, 10×, 20×, 50×, 100×
- Специализированные DUV-объективы
- Длиннофокусные объективы (LWD) с увеличенным рабочим расстоянием

Системы автоматизации:

- Активная лазерная автофокусировка — с многоточечным датчиком для высокой стабильности
- Автоматическая регулировка апертуры — оптимизация контраста для каждого объектива
- Моторизованная револьверная головка — быстрая смена объективов
- Автоматический загрузчик пластин (Wafer Loader) — для кассет 6" (150 мм) и 8" (200 мм)

Программное обеспечение:

- AI-поддержка распознавания изображений — автоматическое обнаружение и классификация дефектов
- Метод «Золотого образца» (Golden Sample) — сравнение с эталоном
- Автоматическое картирование дефектов по всей пластине
- Статистический анализ и экспорт данных
- Измерение совмещения слоёв (Overlay) для контроля литографии

Интеграция:

- Поддержка SECS/GEM для интеграции в Fab-wide системы управления
- Совместимость с автоматическими линиями и кластерными системами

Эргономика и безопасность:

- Соответствие стандартам SEMI S2/S8
- Наклонная наблюдательная трубка для комфортной работы оператора
- Жёсткая виброзащищённая конструкция для работы на высоких увеличения

Ключевое преимущество автоматического оптического микроскопа