Главная / Оборудование / Диффузионная печь горизонтального типа для процессов лигирования и оксидации

Диффузионная печь горизонтального типа для процессов лигирования и оксидации

Термическое оборудование горизонтального типа для обработки полупроводниковых пластин в атмосфере реакционных газов при атмосферном или пониженном давлении. Используется для исследовательских работ и мелкосерийного производства.

Получить предложение

Фотоника и оптоэлектроника

Органическая электроника

МЭМС

Кремниевая электроника

Силовая электроника

СВЧ

Характеристики

Опции

Общие характеристики

Диаметр пластин:

от 50 мм до 300 мм

Загрузка:

- Исследовательские (R&D): до 25–50 шт.
- Промышленные: 110+ шт. (для 150 мм и 200 мм)

Диапазон температур:

200–1350°C

Неравномерность температуры:

≤ ±0.5°C по длине зоны

Зоны нагрева:

3 или 5 зон

Кварцевые реакторы:

до 4 шт., совместимых с различными технологическими процессами

Погрешность газовой системы:

≤ ±1.0% (на базе MFC)

Управление:

ПЛК + HMI (промышленный ПК) с сенсорным экраном

Поддерживаемые процессы:

- Окисление: сухое, влажное, пирогенное, HiPOx
- Легирование: из твердых, жидких и газообразных источников
- Термические процессы: отжиг, сплавление, стабилизация

Питание:

380/400 В, 3 фазы, 50/60 Гц

Энергопотребление:

от 20 кВт

Охлаждение::

водяное (8–60 л/мин)

Вытяжка:

200–800 м³/ч

Сжатый воздух:

4,8–7,6 бар

Опции

Конфигурация реакторов: на выбор от 1 до 12-трубных систем

Газовая система: возможность подключения до 8 газовых линий и 2 жидкостных

Интеграция: совместимость с SECS/GEM, интерфейс для связи с MES

Конструкция механизма вращения подложки для сверхвысоковакуумного напыления и высокотемпературного нагрева. Используется керамический корпус, водяное охлаждение внутри для защиты механизма вращения и обеспечения его стабильной работы на долгое время.

Гибкий подбор размеров вакуумной камеры зависящий от размера подложки и области применения

Полно диапазонный датчик вакуума с цифровым дисплеем и Баратрон для управления давлением в системе по замкнутому контуру

Несколько испарителей с последовательной работой или совместным напылением

ВЧ-, НЧ- или импульсные источники для диэлектриков и токопроводящих материалов

Напыление многослойных плёнок выбранными материалами мишеней

Регулируемая высота магнетронов, (расстояние между мишенью и подложкой)

Позвоните нам +7 (495) 150 95 46

Или оставьте запрос на коммерческое предложение
и дополнительную информацию в этой форме

Поля, обязательные к заполнению, помечены (*).
Нажимая на кнопку, Вы соглашаетесь с Политикой конфиденциальности.

Назад