Главная / Оборудование / Термическое напыление (Thermal PVD)

Термическое напыление (Thermal PVD)

Универсальная установка напыления тонких плёнок методом резистивного (термического) испарения в высоком вакууме. Подходит для осаждения металлов и органических материалов

Получить предложение

Фотоника и оптоэлектроника

Органическая электроника

МЭМС

Кремниевая электроника

Силовая электроника

СВЧ

Характеристики

Опции

Общие характеристики

Габариты обрабатываемых пластин и подложек:

диаметр до 200 мм (полупроводниковая пластина) или 60 x 48 мм² (стекло/ситал/)

Равномерность по толщине:

< 5% (опционально < 3% при использовании коррекционных масок/планетарной системы)

Остаточное давление:

< 5×10⁻⁷ Торр (в зависимости от исполнения)

Максимальная температура нагрева подложек:

400˚C

Встроенная система безопасности: автоматические блокировки дверей, датчики протечки воды, защита от перегрева испарителей

Автоматическая система управления: сенсорный экран, программируемые рецепты

Документирование параметров техпроцесса в реальном времени: давление в камере, температура подложек, скорость напыления (при наличии кварцевого датчика), ток/напряжение на испарителях

Управление техпроцессом в реальном времени для исключительного качества и повторяемости толщин плёнок

Различные уровни доступа к системе: оператор, технолог, инженер-наладчик (логин + пароль)

Одновременное нанесение различных материалов (последовательное или совместное испарение из разных источников)

Набор испарителей: до 4-х резистивных лодочек/корзиночных испарителей с независимым управлением

Кварцевый датчик толщины (опционально) для контроля толщины и скорости напыления с обратной связью

Специальная конфигурация и состав под заказ

Опции

Буферная камера и система автоматической загрузки-выгрузки подложек

Источник питания: ВЧ или на постоянном токе

Датчик контроля толщины нанесения

Нагрев и охлаждение подложек

Ионный источник

Анализатор остаточных газов

Интеграция с перчаточным боксом (включая шлюз и автоблокировку)

Конструкция механизма вращения подложки для сверхвысоковакуумного напыления и высокотемпературного нагрева. Используется керамический корпус, водяное охлаждение внутри для защиты механизма вращения и обеспечения его стабильной работы на долгое время.

Гибкий подбор размеров вакуумной камеры зависящий от размера подложки и области применения

Полно диапазонный датчик вакуума с цифровым дисплеем и Баратрон для управления давлением в системе по замкнутому контуру

Несколько испарителей с последовательной работой или совместным напылением

ВЧ-, НЧ- или импульсные источники для диэлектриков и токопроводящих материалов

Напыление многослойных плёнок выбранными материалами мишеней

Регулируемая высота магнетронов, (расстояние между мишенью и подложкой)

Позвоните нам +7 (495) 150 95 46

Или оставьте запрос на коммерческое предложение
и дополнительную информацию в этой форме

Поля, обязательные к заполнению, помечены (*).
Нажимая на кнопку, Вы соглашаетесь с Политикой конфиденциальности.

Назад