Главная / Оборудование / Атомно-слоевое осаждение термическое (Thermal ALD)

Атомно-слоевое осаждение термическое (Thermal ALD)

Универсальная установка осаждения сверхтонких плёнок методом термического атомно-слоевого осаждения (Thermal ALD) с высокой повторяемостью и субнанометровым контролем толщины

Получить предложение

Фотоника и оптоэлектроника

Органическая электроника

МЭМС

Кремниевая электроника

Силовая электроника

СВЧ

Характеристики

Опции

Общие характеристики

Габариты обрабатываемых пластин и подложек:

диаметр до 300 мм (полупроводниковая пластина)

Равномерность по толщине:

< 1% (в пределах подложки и от подложки к подложке)

Остаточное давление:

< 10⁻⁶ Торр (базовое)

Диапазон рабочих давлений:

0.1 – 5 Торр (в зависимости от прекурсоров и продувочного газа)

Максимальная температура нагрева подложек:

400 ˚C (опционально до 500 ˚C)

Типичная скорость осаждения:

0.3 – 2.5 Å/цикл (зависит от материала и температуры)

Количество прекурсоров: до 6 линий (жидких, твёрдых или газовых)

Встроенная система безопасности: автоматические блокировки дверей, клапанов, вентилей и детекторы утечек токсичных прекурсоров

Автоматическая система управления, сенсорный экран, полный контроль ALD-циклов

·Документирование параметров техпроцесса в реальном времени (давление в камере, температура, времена импульсов/продувок, количество циклов)

Управление техпроцессом в реальном времени для исключительного качества и повторяемости толщин плёнок

Различные уровни доступа к системе (оператор, технолог, инженер-наладчик) с защитой через логин-пароль

Специальная конфигурация и состав под заказ

Опции

На выбор доступны конфигурации с турбомолекулярным насосом (для быстрой откачки) или ротационным + форвакуумным насосом

Количество линий прекурсоров (2, 4, 6 и более) – указывается при размещении заказа

Система нагрева линий подачи прекурсоров

Загрузочный шлюз (load-lock)

Интеграция с перчаточным боксом (включая шлюз и автоблокировку)

Конструкция механизма вращения подложки для сверхвысоковакуумного напыления и высокотемпературного нагрева. Используется керамический корпус, водяное охлаждение внутри для защиты механизма вращения и обеспечения его стабильной работы на долгое время.

Гибкий подбор размеров вакуумной камеры зависящий от размера подложки и области применения

Полно диапазонный датчик вакуума с цифровым дисплеем и Баратрон для управления давлением в системе по замкнутому контуру

Несколько испарителей с последовательной работой или совместным напылением

ВЧ-, НЧ- или импульсные источники для диэлектриков и токопроводящих материалов

Напыление многослойных плёнок выбранными материалами мишеней

Регулируемая высота магнетронов, (расстояние между мишенью и подложкой)

Позвоните нам +7 (495) 150 95 46

Или оставьте запрос на коммерческое предложение
и дополнительную информацию в этой форме

Поля, обязательные к заполнению, помечены (*).
Нажимая на кнопку, Вы соглашаетесь с Политикой конфиденциальности.

Назад